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李薰奖获得者Rahul Raveendran Nair访问金属所
2018年08月27日 11:12:00  来源:金属研究所    字体大小[]

      应中国科学院金属研究所邀请,2018年度李薰研究奖获得者、英国曼彻斯特大学教授Rahul Raveendran Nair于8月13日至23日访问金属所。

      来访期间,Rahul Raveendran Nair为金属所科研人员和研究生作了题目为Tunable graphene-based membranes的报告。报告前,中科院院士成会明为Rahul R. Nair颁发了李薰研究奖奖牌。

      Rahul Raveendran Nair主要从事二维原子晶体材料研究。他师从诺贝尔物理学奖获得者Andre Geim,在石墨烯的光学、磁学和化学性质研究以及石墨烯薄膜应用方面都做出了多项开创性贡献: 发现石墨烯的可见光吸收与精细结构常数相关(Science 2008),提出采用缺陷及分子掺杂的方法诱导石墨烯磁性(Nature Physics 2012, Nature Communnications 2013),率先制备出氢化及氟化石墨烯,并揭示了其独特的物理化学性质(Science 2009, Small 2010),发现氧化石墨烯薄膜的超快水分子输运性质及精准的分子筛分性能(Science 2012,Science 2014),率先提出并证明了氧化石墨烯薄膜在阻隔涂层、水处理及有机溶剂过滤中的广泛应用(Nature Communications 2014, Nature Nanotechnology 2017, Nature Materials 2017)。Rahul Raveendran Nair共发表SCI论文60余篇,其中第一/通讯作者发表的论文中包括Science4篇,Nature Materials、Nature Physics、Nature Nanotechnology各1篇以及Nature Communications3篇。所有论文共计被SCI引用19,000余次。2016和2017年连续两年入选全球高被引学者榜单。

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